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微米级工艺，纳米级控制 | Litho光刻胶过滤解决方案
2025-10-17
光刻胶作为半导体制造中精度要求极高的功能性材料，其纯度直接影响光刻图案的质量（如缺陷率、线宽均匀性）和芯片良率。光刻工艺的核心是将芯片设计的电路图（掩模版上的图案）转移到半导体衬底（如硅片）上，而光刻胶是实现这一转移的关键介质，其作用包括：
• 图案承载：光刻胶通过曝光（受紫外线、电子束等照射）发生化学变化（如正胶曝光后溶解，负胶曝光后固化），精确复制掩模版上的纳米级电路图案。
• 尺寸控制：光刻胶的分辨率（最小可分辨的线宽）直接决定了芯片的制程节点（如 7nm、3nm），其化学稳定性和机械强度需满足后续刻蚀、离子注入等工艺的要求，避免图案变形或损坏。
• 保护衬底：在刻蚀或离子注入过程中，光刻胶作为 “掩膜” 保护未被图案覆盖的区域，确保只有目标区域被加工，是实现选择性工艺的基础。
光刻胶过滤是去除其中微量杂质（如颗粒、气泡、凝胶、金属离子等）的关键环节，光刻胶过滤的核心目标是在不破坏胶液性能的前提下，高效去除亚微米甚至纳米级杂质，同时杜绝二次污染，最终保障光刻图案的精度和芯片良率。随着制程向先进节点突破，过滤技术需与光刻胶材料、光刻工艺同步升级，是半导体材料制备中 “微米级工艺，纳米级控制” 的典型体现。光刻胶过滤是现代工业中不可或缺的“隐形守护者”。飞潮 Feature-Tec新材以强大的材料科学、精密制造与严格验证体系，在这一领域不断突破。
六维守护——创新净化
飞潮 Feature-Tec独一无二的“价值可视化”六维守护体系。致力为客户提供安全、可靠、功能、便利、经济、环保的过滤解决方案。飞潮 Feature-Tec自研生产的光化学过滤器 Polyflora B/ E/F系列，专为光化学过滤研发， Polyflora E系列光化学过滤器为一字型排布接口，F系列为三角形排布接口，搭配管路接头均可实现快速拆装，适用于去离子水、显影液、光抗蚀剂等光化学试剂，应用范围广泛。针对更高精度需求和关键点位光刻胶对气泡极其严格的管控要求，开发设计了滤膜前后双通道排气的方式，以应对先进光刻技术中的过滤挑战。
产品特色
化学兼容性：支持 EUV、ArF、KrF 、显影液、光抗蚀剂等光化学试剂
低析出：金属离子、有机物、非挥发性残留物物质低析出管控
超净工艺：加强清洗技术减少颗粒脱落和微气泡形成
灵活适配：多种膜材料（UPE、Nylon、PTFE）和截留精度（3 nm 至 200 nm）可选。
典型应用场景：: EUV、ArF、KrF 光刻胶、显影液、溶剂类
材料与结构科：高纯HDPE结构件搭配高纯活性表面处理以及特定膜结构设计来提高对光化学反应中产生的副产物或残余光敏物的抑制与过滤效果。这样不仅能显著降低杂质含量，也能保障滤器稳定性与长期使用寿命。
检测验证体系
除了优质的产品，飞潮 Feature-Tec建立了较为完善的验证体系，包括 CNAS 检测与流程控制，保证在生产 /使用中光化学过滤器的性能稳定与规格一致。
飞潮 Feature-Tec在光化学过滤领域的未来发展将聚焦以下方向：持续升级材料性能，提升滤材的耐光性、耐温性与耐腐蚀性，以应对更苛刻的光化学环境；加强定制化能力，依据客户的光源类型、反应机理和化学组分等体系特点，提供专属过滤器设计；推动系统集成与智能控制，结合监测传感器与自动调节装置，实现在线监测与自适应调控；贯彻绿色可持续发展理念，致力于降低能耗、采用环保材料、延长滤器寿命并提高可回收性。未来，飞潮 Feature-Tec愿与各方携手，借光化学之力，共同守护工业过程的纯净与美好生活。
关于飞潮Feature-Tec
飞潮新材（Feature-Tec）专注过滤、分离、纯化领域20+年，集研发、设计、制造、检测验证于一体。截止到2025年，拥有上海、无锡2个生产基地，分别在上海、北京、大连、西安、合肥、新加坡设立了6个办事处。飞潮Feature-Tec检测验证中心已通过中国合格评定国家认可委员会（CNAS）审核，具备CNAS/ISO17025、GMP-Like体系在内的合规质量体系。
我们的过滤分离解决方案覆盖半导体电子工业、FPD、汽车制造、食品饮料、生物制药、化工生产、水处理、石油开采、机械加工、绿色能源、海洋装备等领域。飞潮（Feature-Tec）的过滤元件包括滤芯、滤袋、滤布等。专业设备包括：全自动过滤系统、磁性分离系统、袋式过滤器、芯式过滤器、机加工液过滤、单芯过滤器、油气分离设备等。客户实践成功案例覆盖：催化剂过滤回收、雷尼镍电磁过滤、纳米浆料浓缩洗涤、胺液脱硫过滤、活性炭脱色过滤、硅钢酸洗应用、粉尘综合治理、废硫酸浓缩等创新过滤工艺技术。
我们可针对行业需求优化工艺参数，助力客户实现高精度定制、智能监测与绿色生产，践行“让世界更清洁、让生活更美好”的使命。欢迎联系飞潮Feature-Tec，携手共创更加洁净美好的世界。
