FPD面板
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FNA 囊式过滤器是一种易于使用且经济高效的胶囊过滤器，设计用于相对较低的流速和小流量处理。
可灵活选择过滤介质和端口连接方式，广泛应用于微电子工业。多种滤膜方案，多种壳体材质方案，
适用于不同的工艺条件。
产品特点
紧凑型设计，安装空间要求低
更换便捷
存液量低，物料浪费少
无金属组件
化学相容性广泛
在洁净室内清洗和包装
典型应用
纯水过滤
稀酸、稀碱、溶剂过滤
气体过滤
光刻胶过滤
技术参数
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P T：
- 过滤介质：聚四氟乙烯
- 其他组件：聚丙烯
- 过滤等级：0.02μm、0.05μm、0.1μm、0.2μm、0.45μm、1.0μm、5.0μm、10μm
- 最大操作温度：90℃
- 最大操作压力：5bar@25℃
- 主要应用：排气/工艺气体/有机溶剂
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P P：
- 过滤介质：聚丙烯
- 其他组件：聚丙烯
- 过滤等级：0.2μm、0.45μm、1μm、5μm、10μm、25μm
- 最大操作温度：90℃
- 最大操作压力：5bar@25℃
- 主要应用：酸、碱、去离子水、溶剂
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P F：
- 过滤介质：亲水不对称聚醚砜
- 其他组件：聚丙烯
- 过滤等级：0.05μm、0.1μm、0.2μm、0.45μm、1.0μm、5.0μm、10μm
- 最大操作温度：90℃
- 最大操作压力：5bar@25℃
- 主要应用：去离子水/酸、碱
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H T：
- 过滤介质：聚四氟乙烯
- 其他组件：HDPE
- 过滤等级：0.02μm、0.05μm、0.1μm、0.2μm、0.45μm、1.0μm、5.0μm、10μm
- 最大操作温度：90℃
- 最大操作压力：5.5bar@25℃
- 主要应用：光刻胶/去离子水/酸、碱
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产品参数
关联应用
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