一体式过滤器
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滤膜前后双通道排气
Polyflora B 系列光化学过滤器，基于已有的 E、F 系列的结构设计，针对更高精度需求和关键点位光刻胶对气泡极其严格的管控要求，开发设计了滤膜前后双通道排气的方式，以应对先进光刻技术中的过滤挑战，适用于最关键的光刻胶和光化学应用。
产品特色
- 化学兼容性：支持 EUV、ArF、KrF 等光化学试剂
- 低析出：金属离子、有机物、非挥发性残留物物质低析出管控
- 超净工艺：加强清洗技术减少颗粒脱落和微气泡形成
- 灵活适配：多种膜材料（UPE、Nylon、PTFE）和截留精度（3 nm 至 200 nm）可选。
典型应用
- EUV、ArF、KrF 光刻胶
- 显影液
- 溶剂类技术参数
- 滤材：超高分子量聚乙烯、尼龙、疏水聚四氟乙烯（UPE、Nylon、PTFE）
- 骨架与端盖：高密度聚乙烯（HDPE）
- 支撑与分水层：高密度聚乙烯（HDPE）
- 密封圈：全氟醚（FFKM）
- 最高使用温度：40℃
- 最大操作压力：3.4bar@25℃
- 最大正向压差：2.7bar@25℃
- 有效过滤面积：1200 cm² 至 3300 cm²
产品参数
关联应用
相关元件
相关设备
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