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一体式过滤器

一体式过滤器 Lunaris CMP

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  • 有效拦截大颗粒，不改变原有颗粒分布
    专为半导体厂 CMP 工艺点位 Slurry 的过滤设计。可针对不同 Slurry 成分以及客户工艺差异点组合搭配合理的滤材，更科学的滤材搭配使得产品有效拦截大颗粒的同时不会改变原有 Slurry 的颗粒分布。

     

     

    产品特色
    - 更高的滤效与更长的滤芯寿命
    - 滤芯搭配多样化
    - 拆装便捷省时间

     


    典型应用
    - 半导体 Slurry 过滤

    技术参数

    壳体

    聚乙烯(PP)

    滤材

    深层卷绕聚乙烯(PP)

    密封圈

    三元乙丙(EPDM)

    最大操作压力

    3.5bar @ 25 °C

     

     

一体式过滤器 Lunaris CMP
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  • 一体式过滤器 Lunaris CMP

产品参数

  •  

    		 PT

    PP

    PF

    HT

    过滤介质

    聚四氟乙烯

    聚丙烯

    亲水不对称聚醚砜

    聚四氟乙烯

    其他组件

    		 聚丙烯

    聚丙烯

    聚丙烯

    		 HDPE
    过滤等级 0.02μm,0.05μm,0.lμm
    0.2um,0.5μm,1.0μm
    5.0μm,10μm

    0.2μm,0.5μm,lμm
    5μm,10μm,25μm

    		 0.05μm,0.lμm
    0.2μm,0.5μm,1.0μm
    5μm,10μm    		 0.02μm,0.05μm,0.lμm
    0.2μm,0.5μm,1.0μm,
    5.0μm,10μm

    最大操作温度

    		 90℃/194°F

    90℃/194°F

    90℃/194°F

    90℃/194°F
    最大操作压力 5.5bar@50℃ 4.8bar@21℃ 4.8bar@21℃ 5.5bar@50℃

    主要应用     

    		 排气/工艺气体/有机溶剂

            酸、碱、去离子水、溶剂

    		去离子水/酸、碱

    光刻胶/去离子水/酸、碱

关联应用

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