半导体制造
精益求精，满足泛半导体行业中对过滤、分离、纯化工艺的严苛要求
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FTKLN 系列是针对 POU 终端客户需求研制的气体纯化器，B 系列主要为确保高纯度工艺气体在微
电子行的纯度一致性和最终纯度，利用科学的材料配比将气体中水，氧，一氧化碳，二氧化碳等
杂质深度脱除，保证最终使用点位的气体纯净。
应用领域
半导体行业、钢瓶气纯化、色谱载气纯化、其他研发领域产品特点
- 过程控制：纯度控制ppb级以下，通过ISO9001:2015设备制造的净化器，符合CE压力设备指令（PED）认证
- 操作安装：无需加热器或其他功耗，室温下工作，建议垂直安装，气流方向自上而下
- 成本节约：壳体寿命20年，入口气体水、氧含量1ppm时可使用一年，吸附饱和后可返厂再生
性能参数
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纯化气体
CL₂、BF₃、HCl、GeCl、GeH、H₂S、H₂Se、HBr、SiHCl₃、SO₂等三十多种特气
杂质组成
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杂质成分 出口纯度 H₂O <1ppb O₂ <1ppb CO <1ppb CO₂ <1ppb H₂ <1ppb NMHC <1ppb 其他参数
- 内部表面粗糙度：Ra<0.25μm/10μm
- 使用温度：0-65℃
- 使用压力：≤20bar
- 压差：≤0.1bar
- 漏率：1×10⁻⁸atm·cc/sec
- 出口颗粒过滤：Gasfil—低硫316L粉末烧结1.5μm滤片
产品参数
关联应用
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