半导体制造
精益求精，满足泛半导体行业中对过滤、分离、纯化工艺的严苛要求
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Gasfil ALO 系列超纯气体过滤器，内芯采用高纯氧化铝多孔陶瓷材料，过滤精度可达 1.5nm。专为半
导体制程超高纯工艺气体在线过滤应用进行设计，具备 30~3000L/min 流量的各种型号，特别适合小
尺寸大流量需求点位应用。
产品特点
316L不锈钢壳体；超高颗粒拦截效率；小尺寸、高通量、低阻力；适用于多种工艺气体，兼容强氧化性气体；洁净室环境内制造、测试、包装；100%完整性测试通过；100%氦气泄漏检测通过。
技术参数
- 滤材：惰性氧化铝
- 壳体：方案一：低硫316L；方案二：超纯316L（VAR/VIM+VAR）
- 表面处理：外表面：Ra<1.6μm；内表面：电解抛光，Ra<0.2μm
- 过滤效率：颗粒拦截粒径：≥1.5nm；颗粒拦截效率：≥99.999999%（9 LRV）@30 slpm
- 最高使用温度：50℃
- 下游洁净度：<1 particle/ft³ @ >0.01 μm，30slpm
- 氦气泄漏率：验证漏率：2×10⁻¹⁰ atm.cc/sec；测试漏率：1×10⁻⁹ atm.cc/sec
- 最大进气压力：207 bar
- 最大工作压差：5.2 bar
产品参数
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