半导体制造
精益求精,满足泛半导体行业中对过滤、分离、纯化工艺的严苛要求
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Gasfil ALO 系列超纯气体过滤器,内芯采用高纯氧化铝多孔陶瓷材料,过滤精度可达 1.5nm。专为半
导体制程超高纯工艺气体在线过滤应用进行设计,具备 30~3000L/min 流量的各种型号,特别适合小
尺寸大流量需求点位应用。
产品特点
316L不锈钢壳体;超高颗粒拦截效率;小尺寸、高通量、低阻力;适用于多种工艺气体,兼容强氧化性气体;洁净室环境内制造、测试、包装;100%完整性测试通过;100%氦气泄漏检测通过。
技术参数
- 滤材:惰性氧化铝
- 壳体:方案一为低碳316L,方案二为超纯316L(VAR/VIM+VAR)
- 最高使用温度:50℃
- 下游洁净度:<1 particle/ft³ @ >0.01 μm,30slpm
- 过滤效率:颗粒截留粒径≥1.5μm,颗粒拦截效率≥99.999999%(9 LRV)@30 slpm
- 最大进气压力:207 bar
- 最大工作压差:5.2 bar
- 表面处理:外表面Ra<1.6μm,内表面电解抛光Ra<0.2μm
- 氦气泄漏率:验证漏率2×10⁻⁹ atm·cc/sec,测试漏率1×10⁻⁹ atm·cc/sec
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产品参数
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