半导体制造

精益求精,满足泛半导体行业中对过滤、分离、纯化工艺的严苛要求

高压过滤模HPCF

  • HP-CF 系列是一款面向 200 bar 以上高压工况设计的全金属洁净流体模块,采用锻造不锈钢或超级双相钢整体承压结构,在高压条件下同时满足结构安全性、材料级洁净度及可验证性能要求。区别于传统意义上的“过滤器壳体”,满足高风险压力段的结构与洁净需求,适用于液压油、超纯水及高纯工艺流体系统。

     

    产品特点
    • 锻造不锈钢 / 超级双相钢整体承压结构
    • 设计压力最高可达 420 bar
    • 全金属流道,无任何内涂层、内衬或电镀层
    • 同一壳体兼容油、水及化学清洗介质
    • 支持纳米级过滤介质
    • 紧凑型直通式结构,最大接口尺寸 1 英寸

     

    典型应用
    • 半导体超纯水系统
    • 半导体 / 显示面板化学品输送系统
    • 高可靠性液压系统
    • 海工及海水高压过滤系统
    • 实验室及中试级高压测试系统

     

    技术参数

    壳体

    316L、超级双相钢

    弹簧

    316L

    螺栓

    304

    密封材质

    氟橡胶,EPDM,包氟橡胶,全氟醚

    连接方式

    筒体连接:法兰
    进出口:NPT、BSP
    排气口:NPT、BSP
    排液口:NPT、BSP

    表面处理

    抛光类型:电解抛光
    Ra:内壁<0.2 μm,外壁<0.4 μm

    最大工作压力

    42 MPa

    最高使用温度

    460°C

高压过滤模HPCF
+
  • 高压过滤模HPCF

产品参数

关联应用

相关元件

相关设备

询价咨询

请填写下方的表单提交您的需求信息(询价参数、产品型号、工况等),我们的工程师会尽快联系您,谢谢!


提交
%{tishi_zhanwei}%