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飞潮Feature-Tec制程过滤 精于核心材料，严控绝对纯度

2026-05-28

 

2026年将近过半，AI与HBM的爆发驱动半导体向 Sub-5nm 先进制程迭代，纳米级污染控制已成为晶圆“极致良率”的生命线。立足 26 载分离技术积淀，飞潮Feature-Tec凭借纵向全产业链整合实力，实现全材质微孔滤膜的自主研发。2nm产品精度直达 5nm 尖端制程，并已全面跑通主流 Fab 厂实测。飞潮以严苛的批次一致性与国际化合规品质，筑牢半导体核心工艺良率防线，赋能全球客户供应链安全与降本增效。

 

 

1）材料创新与研发积淀，聚焦半导体纳米级污染控制

飞潮 Feature-Tec立足先进材料科学，深入开展多元化滤膜的机理研究与全系列产品开发。我们凭借精密的微孔控制技术，打造出覆盖多材质、多流体的纳米级过滤矩阵，以卓越的材料兼容性与定制化研发能力，为高端制程的纯度控制注入核心动力。

 

图1：多元化滤膜研究与开发

 

图2：膜材料研发进程

 

 

图3：主流膜材性能指标对比：通量、截留与过滤效率（数据来源：飞潮 Feature-Tec实验室，数据为市售样品测试结果，仅供选型参考，实际表现受工况影响）

 

 

 

2）卓越品质，始终如一：飞潮 Feature-Tec半导体制程过滤的稳定性与一致性

飞潮 Feature-Tec严格执行高标准的ISO9001和ISO13485 质量管理体系认证，，确保标准品与定制品均具备卓越的批次一致性。依托全行业丰富的流体过滤分离经验，以及CNAS认证体系，我们的测试数据偏差更小、风险更低。

 

我们提供覆盖2nm等前沿精度的丰富产品类型，通过多厂商业界实测，不仅在OEM应用中表现优异，更能灵活高效地响应客户定制化需求，以多元化的高性能过滤方案助力半导体高端制造降本增效。

 

 

 
 
 
3）一线晶圆厂与核心设备商联合验证：成熟工艺适配，护航高良率制程

在对纯度与稳定性要求极致苛刻的半导体制造领域，飞潮 Feature-Tec凭借深厚的材料科学底蕴，其全氟滤芯、光化学过滤器及气体限流器等核心产品，已在深圳、上海、无锡、绍兴等国内多家一线大型12寸/8寸晶圆厂（Fab）及顶尖半导体设备商完成内部实测并进行批量供应。

 

我们的技术方案成功覆盖SC1、BOE、DHF、SPM等核心清洗机台点位，以及PR（光刻胶）过滤、Litho（光刻）水洗、DIW（超纯水）高压过滤和真空设备气体扩散等多项关键制程。实测数据显示，飞潮 Feature-Tec产品在10nm、15nm、20nm等前沿精密点位上的拦截效率、金属离子控制及通量表现均完全符合甚至优于业界既定标准。

 

图1：半导体制程主流产品应用

 

图2：大型晶圆厂&设备商内部测试情况整合

 

 

 
4）全球视野与绝对纯度：飞潮 Feature-Tec半导体制程过滤的国际化硬核实力

飞潮 Feature-Tec立足 26 载流体分离积淀，构筑了以新加坡为区域总部、辐射全球的国际化服务网络，拥有“3大研发中心与2大生产基地”的规模化量产格局。依托 400 余项专利技术，飞潮 Feature-Tec不仅攻克材料科学边界，实现了涵盖 PTFE、UPE、PES 等全材质微孔滤膜的自主研发与垂直整合，其生产验证体系更全面接轨国际严苛的半导体及医药级合规标准。

 

在通量、拦截效率及金属离子控制性能上均达到国际一线品质。目前，飞潮 Feature-Tec已成功跑通国内及海外多家主流 Fab 厂与顶尖设备商的严苛机测，在实现核心制程高可靠性高纯过滤的同时，灵活响应全球客户的定制化与 OEM 开发需求，全面赋能先进制程的全球化供应链升级。

 

 

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