新闻动态
Yield Alarm 之后：POU过滤
2026-03-21
Fab工程师的一天：从良率报警开始；早上 8:30刚进办公室，咖啡还没喝两口，手机就震了一下：Yield Alarm.
这是很多半导体工程师再熟悉不过的一天开场。接下来的一小时通常是这样的：
- 打开 SPC 曲线
- 检查设备 log
- 对比上一批数据
- 看工艺参数有没有漂移
会议室里，大家盯着屏幕。设备正常、工艺参数正常、气体供应也正常。但良率，就是掉了。在 Fab 里，最难查的不是大问题而是这种没有明显异常的问题。很多时候，真正的原因可能只是：一个纳米级颗粒/一点点水分/痕量氧气进入系统/管路中脱落的微粒……这些东西不会触发设备报警。但它们会影响：
- 薄膜质量
- 刻蚀均匀性
- 光刻稳定性
最终反映在一个数字上：Yield, 很多污染，并不是来自气源，而是来自气体系统的最后一段路径。从气源到设备，气体会经过：管道系统/阀门/接头/ MFC/分配系统。
只要其中某个环节产生微粒，它最终都会进入设备。这也是为什么现在越来越多 Fab 会在设备端增加一道保护：POU（Point of Use）气体过滤。简单说就是：在气体进入设备之前，再过滤一次。有时候，一枚小小的过滤器就能改变很多在设备气体入口处，POU气体过滤器的作用：把纳米级颗粒拦在工艺之外。
POU过滤系列，Fab良率提升看得见
飞潮Feature-Tec 的 POU 气体过滤器专为半导体高纯气体系统设计，在设备端拦截纳米级颗粒，为 Fab 良率与工艺稳定提供关键保障。
✅减少晶圆缺陷率
通过终端过滤控制纳米级颗粒，减少颗粒沉积导致的工艺缺陷。
✅稳定制程良率
稳定的气体纯度能够降低制程波动，提高产线良率稳定性。
✅提升生产效率
高通量、低阻力的过滤结构能够兼顾洁净度与系统流量需求，避免影响工艺气体供应效率。
✅降低系统污染风险
在气体进入设备前完成最后一道过滤屏障，减少系统污染对设备与产品的影响。
很多时候工程师甚至不会注意到它。但只要它稳定工作，很多“查不出来的问题”就不会发生。在半导体制造里，真正重要的东西往往是看不见的。看不见的颗粒/污染/气体纯度变化……但这些细节，决定着：一片晶圆，是成功的产品，还是报废的成本。飞潮Feature-Tec为先进制造，守住每一分子的纯净。
下一篇：
社交媒体
关注飞潮，共创绿色制造
公众号
视频号