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以高纯HCL过滤，守护纳米级制程良率
2026-01-12
氯化氢（HCL）气体是一种关键的掺杂源、刻蚀剂、清洁气体及外延工艺辅助气体，其应用场景高度聚焦于硅基器件、化合物半导体、先进封装等核心环节，对洁净度要求极高。微量颗粒、金属杂质或析出污染都可能直接影响良率与器件可靠性。半导体HCL过滤纯化场景普遍存在以下痛点：
⚠️强腐蚀性导致材料与系统可靠性受限
HCL 对常用材料具有长期腐蚀与渗透风险，易引发金属离子溶出、密封失效和颗粒污染，对过滤与纯化系统的材料兼容性提出极限挑战。
⚠️超低水分控制难度极高
HCL–水共沸体系使深度脱水复杂且能耗高，而半导体工艺要求水分控制至 ppb 甚至 10 ppb 级，对材料稳定性与脱附控制极为严苛。
⚠️痕量杂质去除与二次污染风险并存
金属离子、游离氯及有机杂质需控制至 ppt 级，杂质形态复杂、分离难度大，多技术耦合下极易引入新的污染源。
飞潮FTKLN B，专注半导体工艺气体过滤
飞潮Feaure-Tec继惰性气体纯化器FTKLN A之后，又推出了工艺气体的纯化产品FTKLN B， FTKLN系列是针对 POU 终端客户需求研制的气体纯化器，B 系列主要为确保高纯度工艺气体在微电子行的纯度一致性和最终纯度，利用科学的材料配比将气体中水，氧，一氧化碳，二氧化碳等杂质深度脱除，保证最终使用点位的气体纯净。尤其适合的在半导体工艺常用但是纯化难度最大的HCL。FTKLN B能为您的制程带来显著的价值。
♻️国际合规认证，确保运行安全：全面符合 CE (PED) 压力设备指令，在高压工况下依然稳健可靠，为您的生产线提供符合国际安全标准的双重防御。
♻️简化操作安装，实现绿色生产：设备支持室温下高效工作，无需加热器或任何额外功耗，大幅降低系统能耗与操作难度。采用科学的垂直安装设计（气流自上而下），优化流体路径，让维护与集成更简单。
♻️长效耐用，降低运营成本： 壳体寿命长达 20 年，提供极高的投资回报率。当入口气体水、氧含量在 1ppm 时，单次使用寿命可达一年，且吸附饱和后支持返厂再生，在减少危废排放的同时，持续为您压缩生产运营成本。
关于飞潮Feature-Tec
飞潮新材 Feature-Tec 深耕过滤、分离与纯化领域 20 余年，集研发、制造与检测验证于一体。服务客户覆盖半导体、FPD、生物制药、核电、锂电、汽车、食品饮料、石油化工、水处理、机械与设备加工、海洋装备、可再生能源等领域，提供涵盖过滤元件、分离设备、陶瓷膜过滤、磁性过滤、反冲洗过滤在内的全自动过滤系统。成功案例涵盖催化剂过滤回收、雷尼镍电磁过滤、纳米浆料浓缩洗涤、胺液脱硫过滤、活性炭脱色过滤、硅钢酸洗、回注水过滤、粉尘综合治理及废硫酸浓缩等创新过滤工艺。
飞潮Feature-Tec拥有全球化布局及通过 CNAS/ISO17025、GMP-Like认证的专业检测能力。可提供清洗验证、污染物分析、可提取物与浸出物研究、细菌截留工艺验证、化学兼容性研究、安全性评估、吸附评估及过滤效率检测等检测验证服务。欢迎联系垂询，定制高效过滤解决方案，携手共创绿色未来。
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